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UV光源紫外线光清洗灯技术的运用原理分析

发布日期:2018-01-31 浏览次数:
      紫外线光清洗灯的技术是利用有机化合物的光敏氧化作用,达到去除黏附在材料表面上的有机物质。

      使用紫外线光清洗灯技术清洗后的材料表面可以达到“原子清洁度”的指标。通俗详细地讲解就是发射波长为185nm和254nm光波的UV光源,是具有相当高的能量,当这些光子作用到被清洗物体表面时,由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外光具有较强的吸取能力,并在吸取185nm波长的紫外光的能量后分解成离子、游离态原子、受激分子和中子,这就是所谓光敏作用。

      空气中的氧气分子在吸取了185nm波长的紫外光后也会产生臭氧和原子氧。臭氧对254nm波长的紫外光 同样具有强烈的吸取作用,臭氧又分解为原子氧和氧气。其中原子氧是极活泼的,在它作用下,物体表面上的碳和碳氢化合物的分解物可化合成可挥发的气体:二氧化碳和水蒸气等逸出表面,从而彻底清除了黏附在物体表面上的碳和有机污染物。

      目前国外广泛使用的清洗方法是UV紫外光清洗,它一方面能避免由于使用有机溶剂造成的污染,同时能够将清洗过程缩短。而用普通石英生产的低压汞的洗净效果远远小于用合成石英制成的低压汞灯。





 
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